Máscara para dispositivos fotónicos / Mask for photonic devices
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Nombre: Máscara para dispositivos fotónicos Material: Tántalo Proceso de fabricación: Micromecanizado láser Láser: Estado sólido (DPSS), 355 nm, 10 ns Excímero (KrF), 248 nm, 7 ns Dimensiones: Espesor=250 mm, Guía=50 mm Fabricante: Centro Láser UPM Fecha de fabricación: Febrero 2008 Name: Mask for photonic devices Material: Tantalum Manufacturing technologies: laser micromachining Laser: Solid State (DPSS), 355 nm, 10 ns Excimer (KrF), 248 nm, 7 ns Dimensions: Thickness=250 mm, Guide=50 mm Manufacturer: Centro Láser UPM Manufacturing date: February 2008 |
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Fabricante / Manufacturer: Centro Láser – Universidad Politécnica de Madrid / Laser Centre of the Universidad Politécnica de Madrid Contacto / Contact: José Luis Ocaña Email: jlocana@etsii.upm.es Web: http://www.upmlaser.upm.es/ |
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