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Máscara para dispositivos fotónicos / Mask for photonic devices



Nombre: Máscara para dispositivos fotónicos
Material: Tántalo
Proceso de fabricación: Micromecanizado láser
Láser: Estado sólido (DPSS), 355 nm, 10 ns
Excímero (KrF), 248 nm, 7 ns
Dimensiones: Espesor=250 mm, Guía=50 mm
Fabricante: Centro Láser UPM
Fecha de fabricación: Febrero 2008

Name: Mask for photonic devices
Material: Tantalum
Manufacturing technologies: laser micromachining
Laser: Solid State (DPSS), 355 nm, 10 ns
Excimer (KrF), 248 nm, 7 ns
Dimensions: Thickness=250 mm, Guide=50 mm
Manufacturer: Centro Láser UPM
Manufacturing date: February 2008

  

Fabricante / Manufacturer: Centro Láser – Universidad Politécnica de Madrid / Laser Centre of the Universidad Politécnica de Madrid
Contacto / Contact: José Luis Ocaña
Email: jlocana@etsii.upm.es
Web: http://www.upmlaser.upm.es/


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